本标准适用于半导体工业拉制单晶用的透明石英玻璃坩埚。 半导体用透明石英玻璃坩埚有QSG1高纯透明石英玻璃坩埚与QSG2透明石英玻璃坩 埚两种。 一、技术栗求 1．物理、化学性能指标 （1）化学成分 a．QSG1高纯透明石英玻璃坩埚 铝、钙、镁、钛、铜、铁、钴、镍、锰、硼、钾、钠、锂十三个杂质元素的总含量不 得大于0．001％。 其中：铝≤5×l0[-4]％； 铜≤0．l×l0[-4]％； 铁≤0．5×l0[-4]％； 硼≤0．1×l0[-4]％； 钾≤1×l0[-4]％； 钠≤1×10[-4]％。 6．QSG2透明石英玻璃坩埚 铝、钙、镁、钛、铜、铁、钴、镍、锰、硼、钾、钠、锂十三个杂质元素的总含量不 得大于0．01％。 其中：铝≤60×10[-4]％； 铜≤0．1×l0[-4]％； 铁≤5×l0[-4]％； 硼≤0．3×l0[-4]％； 钾≤4×l0[-4]％； 钠≤4×l0[-4]％。 （2）热稳定性。 试样在1100℃至20℃温度急变下试验三次，不产生裂纹。 （3）抗析晶性 试样在1200℃温度下恒温半小时，对于高纯透明石英玻璃坩埚不允许出现直径大 于0．5毫米的析晶白点；对于透明石英玻璃坩埚不允许出现直径大于3毫米的析晶白点， 0.5- 3毫米的析晶白点，每100平方厘米不得超过10个。 2．外观指标 （1）两种坩埚均按外观指标分为二级（见表1）。 表１ 项 目 外 观 指 标 一 级 二级 气 直径 弧度部分 0.1- 0.2 0.3- 0.4 毫米 直线部分 0.1- 0.3 0.3- 0.7 泡 允许数量（个/厘米[2]） ≤3 ≤6 气 丝状直径（毫米） 0.5- 3.0 1.0- 7.0 泡 点状直径（毫米） 0.3- 2.0 0.5- 3.0 群 允许总数（个/100厘米[2]） ≤5 ≤8 暗 长 径 弧度部分 毫米 直线部分 疤 允许数量（条/100厘米[2]） ≤2 ≤4 色 丝状长径（毫米） 0.1- 1.0 0.2- 1.5 点状直径（毫米） 0.1- 0.3 0.2- 0.5 斑 允许总数（个/100厘米[2]） ≤2 ≤4 划痕直径（毫米） 不允许 ≤13 划 划痕深度（毫米） 不允许 ≤0.3 划 痕 D 100毫米以下坩埚 不允许 ≤2 痕 数 量 D 100- 130毫米坩埚 ≤3 透明颗粒允许数量（个/100厘米[2]） ≤10 ≤30 波纹（毫米） ≤0.2 ≤0.3 桔 皮 不允许 按标样 云 雾 不允许 不允许 注：ⅱ①缺陷宽度小于点状下限的按丝状计。 ②非圆形缺陷的直径按算术平均值计。 （2）坩埚口部应细磨（内外倒角）成烧圆。不得有缺口，不得有深、宽大于4毫米的 表皮崩落。 （3）坩埚表面光滑整洁，内表面不允许有色斑。 （4）不允许有沾污和析晶。 二、形状与规格尺寸 3．半导体用透明石英玻璃坩埚的形状与规格尺寸应符合下图及表2的规定。 表２ 单位：毫米 外 径 高 度 底半径 厚度范围 同一横截面的厚度公差 D H R 80+0.5 60+2 D-1 2.0- 2.8 0.3 -0.8 -1 ─── 2 90+0.5 70+2 D-1 2.0- 2.8 0.3 -0.8 -1 ─── 2 100+0.5 80+2 D-2 2.0- 2.8 0.3 -1.0 -1 ─── 2 106+0.5 90+2 D-1 2.0- 2.8 0.3 -1.0 -1 ─── 2 114+0.5 75±2 D-1 2.0- 2.8 0.3 -1.0 ─── 2 130+0.5 110±2 D-1 2.0- 2.8 0.4 -1.5 ─── 2 注：D 130毫米以上坩埚按协议。 三、试验方法 4．化学成分 按JC 186－81《石英玻璃原料及制品中微量杂质元素的分析方法》中的规定进行。 5．热稳定性 按JC 187－73《石英玻璃热稳定性检验方法》中的规定进行。 6．抗结晶性 按JC 188－73《石英玻璃抗结晶性检验方法》中的规定进行。 7．气泡 按JC190－81《透明石英玻璃气泡、气线检验方法》中的规定进行。